Percorrer por autor "Catrau, Mafalda"
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- Caracterização dos monómeros de diferentes resinas por HPLCPublication . Catrau, Mafalda; Barahona, IsabelIntrodução: A polimerização das resinas não é completa pelo que ocorre a libertação para o meio dos monómeros que as constituem. Uma vez que muitos destes são tóxicos e têm efeitos adversos nos tecidos é fundamental saber a constituição das resinas. Objetivo: Determinar alguns dos monómeros das resinas TAB 2000®, Protemp 4TM e Structur 3®. Métodos: As resinas foram preparadas de acordo com as instruções do fabricante e segundo o método sink-in. Foram analisados os monómeros hidroxietil metacrilato (HEMA), trietilenoglicol dimetacrilato (TEGMA), metil metacrilato (MMA) e dimetacrilato de uretano (UDMA). Os extratos das amostras foram analisados por Cromatografia Líquida de Elevada Eficiência (HPLC) após períodos de incubação de 24 horas, 7 dias e 14 dias. Resultados: A resina TAB 2000® é constituída por MMA e TEGMA; a Protemp 4TM por TEGMA e UDMA; e a Structur 3® por TEGMA, MMA e UDMA. A TAB 2000® é aquela que liberta monómeros em maior concentração. O UDMA atinge concentrações mais elevadas na Structur 3®. É nas primeiras 24 horas que a variação da concentração dos monómeros é maior, seguida de um aumento até aos 7 dias e uma diminuição até aos 14 dias em todos os monómeros da Structur 3® e do TEGMA na resina TAB 2000®. Conclusão: Os materiais estudados libertaram monómeros residuais em concentrações tóxicas. A resina TAB 2000® é constituída por MMA e TEGMA; a Protemp 4TM por TEGMA e UDMA; e a Structur 3® por TEGMA, MMA e UDMA. A TAB 2000® é aquela que liberta os monómeros em maior concentração. As taxas de libertação dos monómeros tendem a seguir um modelo enzimático, atingindo um equilíbrio ao final de 7 dias. É nas primeiras 24 horas que há uma maior libertação dos monómeros.
- HPLC quantitative determination of acrylic monomers released from resins used in dental restorationPublication . Catrau, Mafalda; Marques, Rita; Félix, Sérgio; Caldeira, Jorge; Barahona, Isabel
